ASML现已供认，行将出货最新款的EUV曝光机EXE:5200，比较上一代来说，功用更强壮，当然不会卖给我国厂商。

　　依据ASML官方说法，EXE:5200是现有初代High NA EUV曝光机EXE:5000的改进款。它将具有更高的芯片吞吐量，EXE:5000每小时可处理185片以上芯片，而EXE:5200的功用估计将更高。这在某种程度上预示着EXE:5200能更有效地支撑2nm制程的量产。

　　早在之前，ASML就已宣告英特尔订货了业界首个TWINSCAN EXE:5200曝光机。这款曝光机具有高数值孔径，每小时可处理200多片芯片，是极紫外 (EUV) 大批量出产体系的一大开展。英特尔的这项行为，也显示出其在引进0.55 NA EUV技能上的决计。

　　TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均选用0.55数值孔径。相较于前代EUV曝光机的0.33数值孔径透镜，0.55 NA EUV在精度上有所提高，能为更小的晶体管功用供给更高分辨率的形式。这项技能的打破，将有利于芯片制作商在2nm制程上获得更大的开展。

　　EUV 0.55 NA的规划方针是从2025年开端完成多个未来节点。这将是业界初次布置该技能，随后也将应用于相似密度的内存技能。跟着EXE:5200的推出，ASML将继续推进半导体技能的开展，为更高端的芯片制作供给更强壮的支撑。

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